原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)是新一代半導體製程技術,比起一般常見的薄膜沉積法更能夠利用cycle數精準的控制膜厚品質,並擁有良好的均勻性與極高的高寬比特性,已被企業廣泛所採用。
荷蘭Beneq是ALD之家,擁有研發、半導體器件製造、批量生產、空間 ALD 和卷對卷 ALD 設計和製造領先的 ALD 設備產品。最新推出的P800設備,尺寸上可針對直徑大於 600 毫米的零件進行塗層,或使用 P800 的容量輕鬆擴大較小零件的批量,而不會影響薄膜質量和均勻性。
Beneq P800的堅固性,配備高容量前驅材料源、去活化和過濾系統,可輕鬆沉積微米厚度的薄膜沉積疊層。其靈活性,提供可定制的反應室尺寸,針對客戶的基材和應用進行了優化。 反應室可輕鬆切換,便於維護和最長的機台正常運作時間。